薄膜分析儀

最具有價格優勢的先進薄膜測量系統

使用F20高級頻譜反射測量系統， 我們能輕鬆的實現對膜層厚度和光學常數(n和k值)的測量。通過對膜層頂部、底部反射光譜進行分析，數秒內我們即可得到膜層的厚度、折射率和消光係數。

通過內置的獨立軟件和USB接口，能夠很容易的把F20安裝在任何的Windows電腦平台上。健全的軟件材料庫(100多種材料)，極大的滿足了對各種不同膜層結構測量的需要，包括對單層、多層或獨立膜層的測量。透過測量樣品的光學常數或導入已存在的資訊，能夠在材料庫內快速的新增新材料。

可測樣品膜層

基本上所有光滑的、半透明的或低吸收係數的薄膜都可以測量。

主要包括電介質與半導體材料，例如：

二氧化矽	氮化矽	類金剛石鍍膜
光刻膠	聚合物膜層	聚酰亞胺
多晶矽	非晶矽	矽

相關應用

主要包括電介質與半導體材料，例如：

半導體製造  • 光刻膠 • 氧化物 • 氮化物	液晶顯示器 • 盒厚 • 聚酰亞胺 • 導電透明膜
光學鍍膜 • 硬塗層 • 抗反射塗層  • 濾波片	生物醫學 • 聚對二甲苯 • 生物膜厚度 • 硝化纖維